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半导体含氟废水处理案例|半导体含氟废水处理方法

建设项目大环境 该半导体材料制造出单位最靠近苏北各地,首要生產一体化三极管治理 芯片,日排卸含氟废液约800吨。是因为立即坏保准则挺高,本身治理 配套设施就没有办法做到氟化物排卸含量降到5mg/L的新要,单位投資1捌佰元新砌的专业的含氟废液治理 平台。 废气物质及的来源 废液重点的来自于集成块制造技术全过程中的刻蚀制作制作工序和清洁工作制作制作工序,重点的弄脏物包含: 氟铝离子浓硫酸浓度:300-800mg/L pH值:2- 包含极少量硅酸盐、磷酸二氢钠 进样器天价属如铜、镍等 补救工序程序流程 分为"预进行外理+耐腐蚀沉淀自己+角度进行外理"搭配组合的工艺: 设定池:义均水环境需水量,设有pH线监测系统 两级作用池:加药系统氢氧化物钙,控制pH至7-8,产生氟化钙沉淀出的 七级放置池:放置分割氟化钙废水 下级影响池:加药系统氯化钙和缔合氯化铝,进三步弄掉残余物氟亚铁离子 二级考试奠定池:多次奠定分开 砂滤软件:除掉浮动物 亲水性炭树脂吸附:出掉有机肥料物和氢化物发生器血本属 污水办理软件系统:板框压滤脱水器,污水水分含量率调至60%左右 终于体验 系统执行比较稳定后,溢水饮用水: 氟正离子渗透压:2.1-3.8mg/L pH值:6.5-7. SS<5mg/L 血本属含水量均达不到排除限 充分满足了《电子无线工业企业水水工业废气废气废气排放标淮》(GB39731-2020)请求,每月限制氟化物废气废气排放约180吨。

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