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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆产生厂建在华北省市,具体出产的84英寸半导体器件晶圆,平均生活污水产生口量约800吨。伴随出产的操作过程中实用巨大氢佛酸做晶圆蚀刻,影响生活污泥里氟化物氧浓度可高达200-300mg/L,远超国家的产生口要求(10mg/L接下来)。 废污水组成成分及源 废水处理通常出自多个流程: 晶圆蚀刻工作 :含高密度氟化物(HF)、盐酸及一少部分天价属 化学上的机械厂镜面抛光(CMP)焦化废水 :含納米级硅粒子、生物碳络合剂 机 除污废液 :含异丙醇、氧化还原电位等设计物 外理鑫霖环保的流程 主要采用"化学反应结晶+沥青混凝土结晶+深度的筛选"三类净化处理操作系统: 特级办理 :加药氯化钙和氢氧化的钙,演变成氟化钙放置,氟化物快速清理率达85% 下级净化处理 :移除PAC(聚合反应氯化铝)和PAM(高分子聚乙烯酰胺),出掉橡胶胶体部分态环保问题物 三级分销除理 :能够 多有机溶剂全自动过滤器中器和抗逆性炭吸咐,有水出氟化物质量浓度动态平衡在8mg/L如下 要素设备还有:pH自动化调准体系、斜管发展池、板框压滤设备(污水脱水等)。 之后目的 创业项目行驶十年监测的数据的数据显现: 氟化物峰值溶液浓度:7.2mg/L(压低国内标准规定) COD避开率:92% 工业废水含水分率:≤65% 年回收利于氟化钙副服务约150吨,确保自然减量化利于

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