工程项目的背景 杭州某半导体材料厂加工的过程中还引起高硅工业废渣处理工艺（SiO₂ 500-800mg/L）和含氟工业废渣处理工艺（F⁻ 200-300mg/L）。五种工业废渣处理工艺混合型喂养后常产生氟硅酸悬浊液，传统与现代化学石雕文化沉淀法不好保持稳定考核规范。该项目要一起清理硅和氟（排放量规范：SiO₂≤30mg/L，F⁻≤10mg/L）。 化工废水组成及种类 主耍部分 ：硅酸氢钠（NaHSiO₃）、氟化铵（NH₄F）、异丙醇 因素 ：晶圆刻蚀废渣、CMP机磨废渣、设施冲刷水 清理技艺具体流程 联合结晶过程 ： 两极响应池 ： 第一名级加药Ca(OH)₂提取CaF₂和CaSiO₃沉淀物中； 然后级加药系统PAC（汇聚氯化铝）升星水解酸化池。 固液破乳过程 ： 反渗透装置系统软件 ：用0.02μm管径膜部件截流氢氧化铁硅和微细结晶物。 厚度脱氟时段 ： 生物脱色铝粘附塔 ：多余氟铝离子溶解避开。 结果英文成效 冒水SiO₂≤25mg/L，F⁻≤8mg/L，远更为重要祖国要求。 反渗透装置机系统通量保持稳定在15LMH，耐腐蚀家电清洗频次提高至60天。 废水经压滤后含水分率＜65%，可按基本上固体废弃物处理。