某半导体行业制造技术品牌因晶圆清洁工作工步有含氨废污水，的水量200吨/天。废污一般的水都除氯离子外还所含氟化物和轻微血本属，处理困难程度大。立即直接环保标准单位让氯离子＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 生产废水的成分及特征 晶圆洁净废液（重点源）：含氯离子200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀加工过程化工废水：含微量分析铜、镍等天价属，pH值上下波动大 CMP研磨机生产废水：含硅颗料及氧化还原电位 工作工艺设备具体流程 应用"化工石雕文化沉淀+膜剥离+折点氯化"结合施工工艺： 预治理 ：加药系统CaCl2除氟，操纵pH在7.5-8. 反渗透装置设计 ：清理0.01μm以内可吸入颗粒物 反融入溶缩 ：将氯离子溶缩至1000mg/L上文 折点氯化 ：精准度操纵氯添加量，将化学需氧量变为为离氮气 阳离子互转 ：有保障天价属标准 然后成果 化学需氧量平衡＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 高价属含碳量大于验测限 水中水回用率达75% 工业废水有量变少40%