武汉某半导体设备电源芯片制作业厂，晶圆制作时中发生含硅、氟的特别的化工废液，设汁除理大规模1200吨/日。化工废液化学成分僵化，内含纳米级级硅粒子及氢佛酸，一般除理的方法未能符合标准。 废水处理工艺组成成分及收入 关键的固体废弃物 ：电解质溶液硅（100-500nm颗粒直径）、氟铁离子（200-300mg/L）、异丙醇 收入制作工艺 ：晶圆刻蚀废气（45%）、CMP检查是否物理拋光废气（40%）、仪器冲干净水（15%） 处里的工艺方案 企业创新主要采用"催化放置+特别膜分离法"高技术路经： 钙盐积淀 ：加药系统氯化钙的还原氟铝离子（自动生成CaF2沉定） 斜板沉淀池发应 ：结合二沉池剂实行橡胶胶体部分硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm孔经膜虚报冒领微细粒状 反浸入设备 ：脱盐率>98%，收废率75% 多效蒸发心得 ：浓水段保证氟化物零排污 最终能够实际效果 氟化物浓硫酸浓度：<8mg/L（小于我国两级的标准10mg/L） 硅的含量：<5mg/L 水的资源回收率：70%用做空气圆形逆流式冷却塔保湿 危险废弃物回收利用：蒸发掉沉渣量较传统性加工下降60%